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【純水設備http://】反滲透膜元件的污染物

純水設備反滲透膜元件在正常運行一段時間后，會受到水中可能存在的懸浮或不溶性物質的污染。常見的污染物有碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅質沉積物和有機或生物沉積物。

污染的性質和程度與供水條件有關。污染發(fā)展緩慢，如果不及早采取措施，會在較短的時間內損害膜元件的性能。

定期檢測系統(tǒng)的整體性能是確定膜元件污染的好方法。表中列出了常見污染物對膜性能的影響。

與上表相對應的常用清洗液如下:

根據(jù)場地的情況進行分析，可以根據(jù)具體的條件進行具體的搭配。

02污染物去除

去除污染物可以通過化學清洗和物理沖洗來實現(xiàn)，有時還可以通過改變操作條件來實現(xiàn)。一般來說，當發(fā)生下列情況之一時，應進行清洗。

1. 在正常壓力下，若流量下降到正常值的10-15%;

2. 為了維持正常的出水流量，溫度修正后的水壓增加了10-15%;

3.出水水質降低10-15%。鹽透過率提高10-15%;

4. 增加使用壓力10-15%;

5. 純水設備反滲透段之間的壓差顯著增大(可能沒有儀器來監(jiān)測這個信號);

常見污染物及其去除方法

1. 碳酸鈣垢

由于阻垢劑添加系統(tǒng)的失效或酸添加系統(tǒng)的失效，當水的pH值增加時，可能會沉積碳酸鈣。碳酸鈣尺度降水的發(fā)生應盡可能早地發(fā)現(xiàn),防止晶體的生長表面的膜損傷,如早期發(fā)現(xiàn)的碳酸鈣,可以用來降低水pH值3.0 ~ 5.0運行1 ~ 2個小時的方法。對于沉淀時間較長的碳酸鈣垢，應采用檸檬酸清洗液進行循環(huán)清洗或隔夜浸泡。

注意:確保任何清洗液的pH值都不低于2.0，杯子可能會對反滲透膜元件造成損壞，尤其是在高溫下，高pH值不應高于11.0。用氨來提高pH值，用硫酸或鹽酸來降低pH值。

2、硫酸鈣垢

三聚磷酸鈉溶液（參見上表中三聚磷酸鈉溶液）是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。

3、金屬氧化物垢

可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物（例如氫氧化鐵）。

4、硅垢

對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們去除。

5、有機沉積物

有機沉積物（例如微生物粘泥或霉斑）可以使用上表清洗液3去除，為了防止再繁殖，可使用殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，最好采用消毒處理。

6、清洗液

清洗反滲透膜元件時建議采用上表所列的清洗液。確定清洗前對污染物進行化學分析十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，南通純水設備為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據(jù)。

對于無機污染物建議使用清洗液1。對于硫酸鈣及有機物建議使用清洗液2。對于嚴重有機物污染建議使用清洗液3。所有清洗可以在高溫度為40℃下清洗60分鐘，所需用品量以每100加侖（379升）中加入量計，配制清洗液時按比例加入藥品及清洗用水，應采用不含游離氯的反滲透產品水來配制溶液并混合均勻。

清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側循環(huán)，此時膜元件仍裝壓力容器內而且需要用專門的清洗裝置來完成該工作。

04 清洗純水設備反滲透膜元件的一般步驟

 

1、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱（或相應水源）打入壓力容器中并排放幾分鐘。

 

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2、用潔凈的水在清洗箱中配制清洗液。

3、將清洗液在壓力容器中循環(huán)1小時或預先設定的時間，對于8英寸或8.5英寸壓力容器時，流速為35~40加侖/分鐘 （133~151升/分鐘 ） ，對于6英寸壓力容器流速為15~20加侖/分鐘 （57~76升/分鐘 ） ，對于4英寸壓力容器流速為9~10加侖/分鐘 （34~38升/分鐘 ）

4、清洗完成以后，排凈清洗箱并進行沖洗，然后向清洗箱中充滿干凈的水以備下一步?jīng)_洗。

5、用泵將干凈、無游離氯的水從清洗箱（或相應水源）打入壓力容器中并排放幾分鐘。

6、在沖洗反滲透系統(tǒng)后，在排放閥打開狀態(tài)下運行反滲透系統(tǒng)，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑（通常需15~30分鐘 ） 。

05 反滲透膜污染特征及處理方法

1、細菌污染

一般特征：脫鹽率可能降低、系統(tǒng)壓降明顯增加、系統(tǒng)產水量明顯降低；

清洗方法：pH值10，2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時更換為0.25%的Na-DDBS)，溫度40℃；0.1%NaOH和0.03%SDS，pH=11.5。

2、硫酸鈣污染

一般特征：脫鹽率明顯降低、系統(tǒng)壓降稍有或適度增加、系統(tǒng)產水量稍有降低；

清洗方法：pH值10，2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時更換為0.25%的Na-DDBS)，溫度40℃；有時也可用pH小于10的NaOH水溶液清洗。

3、有機物沉淀

一般特征：脫鹽率可能降低、南通純水設備系統(tǒng)壓降逐漸升高、系統(tǒng)產水量逐漸降低；

清洗方法：pH值10，2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時更換為0.25%的Na-DDBS)，溫度40℃。

4、氧化物/氫氧化物（鐵、鎳、銅）污染

一般特征： 脫鹽率明顯下降、系統(tǒng)壓降明顯升高、系統(tǒng)產水量明顯降低

清洗方法：氨水調pH值4，2%的檸檬酸溶液，溫度40℃，有時也可以用pH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清洗。

5、無機鹽沉淀物污染

一般特征： 脫鹽率明顯下降、系統(tǒng)壓降增加、系統(tǒng)產水量稍降

清洗方法：2%檸檬酸溶液，氨水調pH值4，溫度40℃，也可用pH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清洗。

6、各種膠體（鐵、有機物及硅膠體）污染

一般特征： 脫鹽率稍有將低、系統(tǒng)壓降稍有上升、系統(tǒng)產水量逐漸減少。

清洗方法：硫酸調pH值10，0.2%三聚磷酸鈉STTP溶液，溫度40℃；有時也可以用pH小于10的NaOH水溶液清洗。

06 反滲透膜清洗幾種常用配方

清洗配方一

1%-2%檸檬酸溶液或0.4%HCl溶液，適用于鐵污染及碳酸鹽結晶污堵；

清洗配方二

0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液，適用于清洗由有機物及活性生物引起的膜組件的污染；

清洗配方三

0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液，適用于清洗由glutamic acid發(fā)酵液引起的膜組件的污染；

清洗配方四

1%甲醛溶液，適用于細菌污染的超濾；

清洗配方五

HNO3的0.5%水溶液，南通純水設備適用于電泳漆處理過程中磷酸鉛對膜組件造成的污堵（此清洗必須在其他常規(guī)化學清洗之后進行。）；

清洗配方六

20%的Na2CO3、7%的Na3PO4、3%的NaOH、0.5%的EDTA，主要用于膠體污染物造成的膜污染；

清洗配方七

9%的十二烷基苯磺酸鈉、9%的表面活性劑、0.4%的NaOH、0.15的無水碳酸鈉、11%的磷酸鈉、10%的硅酸鈉，清洗時需注意pH的控制，有些膜不適用于高pH清洗液的清洗，要慎重選擇，主要用于清洗含油廢水所造成的膜污染；

清洗配方八

3%的H3PO4、0.5%的EDTA-2Na、0.5%的LBOW專用清洗劑，主要用于清洗蛋白質和油脂污染物造成的污染。

清洗配方九

20%的H2SO4，主要用于硅垢結晶造成的污染。

RO膜元件是反滲透設備系統(tǒng)中重要的部分，其日常維護的好壞直接影響到系統(tǒng)出水水質的好壞，這里對于反滲透膜的清洗方法加以概述，系統(tǒng)說明反滲透膜在運行中可能出現(xiàn)的污染物以及相對應的清洗方法。公司可根據(jù)客戶要求制作各種流量的純水設備，超純水設備及軟水處理設備。 實驗室水處理設備，南通純水設備。